至纯科技：2022年年度报告摘要

  股份有限公司公司代码：603690 公司简称：至纯科技上海至纯洁净系统科技股份有限公司2022年年度报告摘要第一节重要提示1本年度报告摘要来自年度报告全文，为全方面了解本公司的经营成果、财务情况及未来发展规划，投资者应当到网站仔细阅读年度报告全文。2本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、完整性，不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏，并承担个别和连带的法律责任。

  5董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案2022年度拟每10股派发现金红利1.324元（含税），并每10股派送红股2股（含税）（每股面值1元） 第二节公司基本情况1公司简介公司股票简况股票种类股票上市交易所股票简称股票代码变更前股票简称A股上海证券交易所至纯科技603690无联系人和联系方式董事会秘书证券事务代表姓名陆磊张娟办公地址上海市闵行区紫海路170号上海市闵行区紫海路170号电线报告期公司主体业务简介集成电路领域，随着信息化、智能化技术的加快速度进行发展，半导体芯片及器件产品在半导体照明、新一代移动通信、智能电网、新能源汽车、消费类电子等领域得到普遍应用，集成电路市场规模实现快速增长。

  公司产品如下所示：产品系列新产品图片应用领域技术特点单片清理洗涤设施S300-HS 覆盖40-7nm制程，重点应用于去胶清洗、离子注入后清洗、化学研磨后清洗、镍铂金属去除等工艺·高温硫酸回收，有助于节约客户成本·高温/高浓度化学品稳定应用·高稳定化学品混配系统·反应腔模组化设计·高洁精度零部S300-BS 可覆盖全制程晶背清洗需求·特有的晶圆翻转系统·良好的晶背刻蚀均匀性S300-CL 覆盖40-28nm制程，重点应用于接触孔清洗、炉管前清洗、薄膜沉积前后清洗等工艺·更好的机械设计，缩短等待时间·通过化学品回收有效为客户降低经营成本·工艺可随世代提升的显著优势S300-SV 覆盖90-7nm制程，重点应用于后段有机物清洗及高介电常数金属清洗工艺·高稳定化学品混配系统·良好的化学品回收能力·反应腔模组化设计·高洁精度零部件槽式清理洗涤设施B300-HT 重点覆盖28nm氮化硅去除·流场优化：重新设计槽体,均匀性与颗粒表现佳·浓度控制：可自动侦测并添加药液·补酸量控制：可实现小量换酸功能B200系列覆盖90-65nm制程，重点应用于刻蚀及去胶领域别的设备特色工艺单片设备可覆盖薄片工艺、化合物半导体、金属剥离制程等湿法制绒设备可覆盖Topcon及HJT等主流电池生产的基本工艺炉管设备可覆盖半导体芯片制程多项核心工艺涂胶显影设备可用于集成电路制造前道晶圆加工环节的光刻工序1.高纯系统集成及支持设备泛半导体工艺伴随许多种特殊制程，会使用到大量超高纯（ppt级别）的干湿化学品，这是完成工艺成果的重要介质，其特点是昂贵并伴随排放，因此高纯工艺系统在这其中发挥着重要作用。

  设备名称产品图片功能简介气瓶柜密闭式安全储存气体并不间断输送气体阀门分配箱高纯气体或者液体分流的阀门箱化学品柜对多套工艺设备做化学品供给化学品附属设备化学品供应系统中部分设备研磨液供应设备按照工艺要求精确配液供给设备单瓶气压式LDS 半导体级先进前驱体物料供应系统设备3、部件材料及专业服务 （1）基于目前国内半导体关键零部件依赖进口的大背景，公司在海宁设立了半导体模组及部件制造基地。

  表决权恢复的优先股股东及持股数量的说明不适用4.2公司与控制股权的人之间的产权及控制关系的方框图√适用 □不适用 4.3公司与实际控制人之间的产权及控制关系的方框图√适用 □不适用 4.4报告期末公司优先股股东总数及前10名股东情况□适用√不适用 5公司债券情况□适用√不适用 第三节重要事项1公司应该依据重要性原则，披露报告期内公司经营情况的重大变化，以及报告期内发生的对公司经营情况有重大影响和预计未来会有重大影响的事项。